400-888-7502

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數據庫收錄SCIE
創刊年份(fen)2013年
年發文量(liang)285
H-index42

Apl Materials

期刊(kan)中文(wen)名(ming)：應用材(cai)料ISSN：2166-532XE-ISSN：2166-532X

該雜(za)志(zhi)國際簡稱：APL MATER，是由出版商(shang)American Institute of Physics出版的一(yi)本致力于發布材料(liao)科(ke)(ke)學(xue)研(yan)(yan)究新成果的的專業學(xue)術期刊(kan)(kan)。該雜(za)志(zhi)以PHYSICS, APPLIED研(yan)(yan)究為重(zhong)點(dian)，主要(yao)發表刊(kan)(kan)登(deng)有(you)創見的學(xue)術論(lun)(lun)文文章、行業最新科(ke)(ke)研(yan)(yan)成果，扼(e)要(yao)報(bao)道階段性研(yan)(yan)究成果和重(zhong)要(yao)研(yan)(yan)究工作的最新進展(zhan)，選載對學(xue)科(ke)(ke)發展(zhan)起指導作用的綜述與專論(lun)(lun)，促進學(xue)術發展(zhan)，為廣大(da)讀者服務。該刊(kan)(kan)是一(yi)本國際優(you)秀雜(za)志(zhi)，在國際上有(you)很高的學(xue)術影(ying)響力。

基本信息：: 期(qi)刊簡稱：APL MATER; 是否(fou)OA：開放; 是(shi)否預警(jing)：否; Gold OA文章(zhang)占比：92.31%

出版信息：: 出版地區：UNITED STATES; 出版周期：1 issue/year; 出版語言：English; 出版(ban)商：American Institute of Physics

評價信息：: 中(zhong)科院分區：2區; JCR分區：Q1; 影響因(yin)子：5.3; CiteScore：9.6

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雜志介紹中(zhong)科院(yuan)JCR分區 JCR分區 CiteScore 投稿(gao)經驗

雜志介紹

Apl Materials雜志介紹

《Apl Materials》是一(yi)本(ben)以English為主的(de)開放(fang)獲(huo)取國際優秀期刊(kan)，中文名稱(cheng)應用材料(liao)，本(ben)刊(kan)主要出版、報(bao)道材料(liao)科學(xue)-PHYSICS, APPLIED領(ling)域的(de)研究動態以及(ji)在該領(ling)域取得(de)(de)的(de)各方(fang)面的(de)經驗和(he)科研成果(guo)，介紹該領(ling)域有關本(ben)專業(ye)(ye)的(de)最(zui)新進展(zhan)，探(tan)討行業(ye)(ye)發展(zhan)的(de)思路和(he)方(fang)法，以促進學(xue)術信息交(jiao)流(liu)，提(ti)高行業(ye)(ye)發展(zhan)。該刊(kan)已被國際權威數(shu)據庫SCIE收錄(lu)，為該領(ling)域相關學(xue)科的(de)發展(zhan)起到了(le)良好的(de)推(tui)動作用，也得(de)(de)到了(le)本(ben)專業(ye)(ye)人員的(de)廣(guang)泛認可(ke)。該刊(kan)最(zui)新影響(xiang)因子為5.3，最(zui)新CiteScore 指數(shu)為9.6。

本刊近(jin)期中國學者發表的(de)論文(wen)主(zhu)要有：

Enhancement of skyrmion density via interface engineering
Author: Bhatti, Sabpreet; Tan, H. K.; Sim, M. I.; Zhang, V. L.; Sall, M.; Xing, Z. X.; Juge, R.; Mahendiran, R.; Soumyanarayanan, A.; Lim, S. T.; Ravelosona, D.; Piramanayagam, S. N.
Black silicon for near-infrared and ultraviolet photodetection: A review
Author: Zhao, Zhou; Zhang, Zengxing; Jing, Junmin; Gao, Rui; Liao, Zhiwei; Zhang, Wenjun; Liu, Guohua; Wang, Yonghua; Wang, Kaiying; Xue, Chenyang
Drastic enhancement of the superconducting temperature in type-II Weyl semimetal candidate MoTe2 via biaxial strain
Author: Yip, King Yau; Lam, Siu Tung; Yu, Kai Ham; Chow, Wing Shing; Zeng, Jiayu; Lai, Kwing To; Goh, Swee K.
Unraveling the bond structure, porosity, and mechanical properties amorphous ZIF-4 and its topological equivalents: Large scale ab initio calculations
Author: Shi, Zuhao; Hartati, Sri; Arramel, Arramel; Li, Neng

英文介紹

Apl Materials雜志英文介紹

APL Materials features original, experimental research on significant topical issues within the field of materials science. In order to highlight research at the forefront of materials science, emphasis is given to the quality and timeliness of the work. The journal considers theory or calculation when the work is particularly timely and relevant to applications.

In addition to regular articles, the journal also publishes Special Topics, which report on cutting-edge areas in materials science, such as Perovskite Solar Cells, 2D Materials, and Beyond Lithium Ion Batteries.

中科院SCI分區

Apl Materials雜志中科院分區信息

2023年12月升(sheng)級版

綜述：否

TOP期刊：否

大類：材料科學 2區

小類：

PHYSICS, APPLIED
物理：應用 2區

MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
材料科學：綜合 3區

NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技 3區

2022年12月升(sheng)級版

綜述：否

TOP期刊：否

大類：材料科學 2區

小類：

MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
材料科學：綜合 2區

PHYSICS, APPLIED
物理：應用 2區

NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技 3區

2021年12月舊的升級版(ban)

綜述：否

TOP期刊：否

大類：材料科學 3區

小類：

MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
材料科學：綜合 3區

NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技 3區

PHYSICS, APPLIED
物理：應用 3區

2021年12月基礎版

綜述：否(fou)

TOP期刊：否

大類：工程技術 2區

小類：

MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
材料科學：綜合 3區

NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技 4區

PHYSICS, APPLIED
物理：應用 3區

2021年(nian)12月(yue)升級版

綜述：否(fou)

TOP期刊：否

大類：材料科學 3區

小類：

MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
材料科學：綜合 3區

NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技 3區

PHYSICS, APPLIED
物理：應用 3區

2020年12月舊(jiu)的升級版

綜述：否

TOP期刊：否(fou)

大類：材料科學 2區

小類：

MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
材料科學：綜合 3區

NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技 3區

PHYSICS, APPLIED
物理：應用 3區

中科院SCI分區：是(shi)中(zhong)(zhong)(zhong)國科(ke)學院(yuan)文獻(xian)情報中(zhong)(zhong)(zhong)心科(ke)學計量中(zhong)(zhong)(zhong)心的科(ke)學研究成果。期(qi)刊(kan)分(fen)(fen)(fen)區(qu)(qu)(qu)(qu)表自2004年(nian)開始(shi)發(fa)布(bu)(bu)，延續至今；2019年(nian)推出升(sheng)級版，實現基礎版、升(sheng)級版并存過渡，2022年(nian)只發(fa)布(bu)(bu)升(sheng)級版，期(qi)刊(kan)分(fen)(fen)(fen)區(qu)(qu)(qu)(qu)表數(shu)據每年(nian)底發(fa)布(bu)(bu)。中(zhong)(zhong)(zhong)科(ke)院(yuan)分(fen)(fen)(fen)區(qu)(qu)(qu)(qu)為4個區(qu)(qu)(qu)(qu)。中(zhong)(zhong)(zhong)科(ke)院(yuan)分(fen)(fen)(fen)區(qu)(qu)(qu)(qu)采(cai)用(yong)刊(kan)物前3年(nian)影(ying)響因子平均(jun)值進行分(fen)(fen)(fen)區(qu)(qu)(qu)(qu),即前5%為該類1區(qu)(qu)(qu)(qu)，6%～20%為2區(qu)(qu)(qu)(qu)、21%～50%為3區(qu)(qu)(qu)(qu)，其余的為4區(qu)(qu)(qu)(qu)。1區(qu)(qu)(qu)(qu)和2區(qu)(qu)(qu)(qu)雜志很少(shao)，雜志質量相對也高，基本(ben)都是(shi)本(ben)領域的頂級期(qi)刊(kan)。

JCR分區（2023-2024年最新(xin)版）

Apl Materials雜志 JCR分區信息

按JIF指標學科分區(qu)

學科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY

收錄子集：SCIE

分區：Q2

排名：122 / 438

百分位：

72.3%

學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY

收錄子集：SCIE

分區：Q2

排名：46 / 140

百分位：

67.5%

學科：PHYSICS, APPLIED

收錄子集：SCIE

分區：Q1

排名：42 / 179

百分位：

76.8%

按JCI指標學(xue)科(ke)分區

學科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY

收錄子集：SCIE

分區：Q1

排名：105 / 438

百分位：

76.14%

學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY

收錄子集：SCIE

分區：Q2

排名：39 / 140

百分位：

72.5%

學科：PHYSICS, APPLIED

收錄子集：SCIE

分區：Q1

排名：38 / 179

百分位：

79.05%

JCR分區：JCR分(fen)(fen)(fen)區(qu)(qu)來(lai)自(zi)科睿唯(wei)安(an)公(gong)司,JCR是一個獨特(te)的(de)(de)多學(xue)科期(qi)刊(kan)(kan)評(ping)價工具(ju)，為唯(wei)一提供(gong)基于引文數(shu)據的(de)(de)統(tong)計(ji)信息的(de)(de)期(qi)刊(kan)(kan)評(ping)價資源。每年發布(bu)的(de)(de)JCR分(fen)(fen)(fen)區(qu)(qu)，設置了254個具(ju)體學(xue)科。JCR分(fen)(fen)(fen)區(qu)(qu)根據每個學(xue)科分(fen)(fen)(fen)類按照期(qi)刊(kan)(kan)當(dang)年的(de)(de)影響因子高低將(jiang)期(qi)刊(kan)(kan)平均分(fen)(fen)(fen)為4個區(qu)(qu)，分(fen)(fen)(fen)別(bie)為Q1、Q2、Q3和Q4，各占(zhan)25%。JCR分(fen)(fen)(fen)區(qu)(qu)中期(qi)刊(kan)(kan)的(de)(de)數(shu)量(liang)是均勻分(fen)(fen)(fen)為四個部分(fen)(fen)(fen)的(de)(de)。

CiteScore 評價數據（2024年最(zui)新(xin)版）

Apl Materials雜志CiteScore 評價數據

CiteScore 值：9.6
SJR：1.527
SNIP：1.339

學科類別	分區	排名	百分位
大類：Engineering 小類：General Engineering	Q1	24 / 307	92%
大類：Engineering 小類：General Materials Science	Q1	78 / 463	83%

歷年影響因子和期刊自引率

投稿經驗

Apl Materials雜志投稿經驗

該(gai)雜(za)志是一本國際優(you)秀雜(za)志，在(zai)國際上有較(jiao)高(gao)的(de)學術(shu)影(ying)響力，行業關注度很高(gao)，已被國際權威(wei)數據庫SCIE收(shou)錄，該(gai)雜(za)志在(zai)PHYSICS, APPLIED綜合專(zhuan)(zhuan)業領(ling)域專(zhuan)(zhuan)業度認可很高(gao)，對(dui)稿件內容的(de)創新(xin)性(xing)(xing)和學術(shu)性(xing)(xing)要求很高(gao)，作為一本國際優(you)秀雜(za)志，一般投稿過審(shen)時(shi)(shi)間都較(jiao)長，投稿過審(shen)時(shi)(shi)間平均 10 Weeks ，如果想投稿該(gai)刊要做好(hao)時(shi)(shi)間安排。版面費不(bu)祥。該(gai)雜(za)志近兩年(nian)未被列(lie)入預警名單，建議您投稿。如您想了解更多投稿政(zheng)策及投稿方案，請咨詢(xun)客服。