期刊中文名(ming):激光(guang)應用雜志ISSN:1042-346XE-ISSN:1938-1387
該(gai)雜志國際(ji)(ji)簡稱(cheng):J LASER APPL,是由出版商Laser Institute of America出版的(de)一(yi)本致力于發布(bu)工(gong)程技術(shu)研究(jiu)新成果(guo)的(de)的(de)專業學(xue)術(shu)期刊(kan)。該(gai)雜志以MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY研究(jiu)為重點,主要發表刊(kan)登有創見的(de)學(xue)術(shu)論文(wen)文(wen)章、行業最新科研成果(guo),扼要報(bao)道階段性研究(jiu)成果(guo)和重要研究(jiu)工(gong)作的(de)最新進(jin)展,選載對(dui)學(xue)科發展起指導(dao)作用的(de)綜(zong)述與專論,促進(jin)學(xue)術(shu)發展,為廣大(da)讀者服(fu)務。該(gai)刊(kan)是一(yi)本國際(ji)(ji)優(you)秀雜志,在國際(ji)(ji)上有很(hen)高(gao)的(de)學(xue)術(shu)影響力。
《Journal Of Laser Applications》是一本以(yi)(yi)English為主的未開放獲取(qu)國(guo)際優秀期刊,中文名稱激光應用雜志,本刊主要(yao)出版(ban)、報道工(gong)程技術(shu)-MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY領域的研究動(dong)態以(yi)(yi)及在該領域取(qu)得(de)的各(ge)方面(mian)的經(jing)驗和科研成果,介(jie)紹該領域有關(guan)本專業(ye)的最新(xin)進展(zhan),探討(tao)行業(ye)發(fa)展(zhan)的思路和方法,以(yi)(yi)促進學(xue)術(shu)信息交流,提高(gao)行業(ye)發(fa)展(zhan)。該刊已(yi)被國(guo)際權威數(shu)據庫SCIE收(shou)錄(lu),為該領域相關(guan)學(xue)科的發(fa)展(zhan)起(qi)到了良好(hao)的推動(dong)作(zuo)用,也得(de)到了本專業(ye)人員的廣泛認可。該刊最新(xin)影(ying)響因子為1.7,最新(xin)CiteScore 指數(shu)為3.6。
本刊近期中國(guo)學者發表的(de)論(lun)文(wen)主(zhu)要有(you):
Author: Yang, Can; Peng, Fei; Yin, Xiao-Hong; Zhang, Mingji; Li, Chunbo; Yang, Huan; Li, Shang
Author: Xu, Mingsan; Wang, Jianguo; Chen, Xiangdang; Zeng, Shoujin; Xiao, Gongxuan
Author: Lv, Chao; Zhang, Ning; Lin, Zhanjian; Ou, Tianxue; Li, Jiaming; Zhao, Nan; Yang, Xinyan; Ma, Qiongxiong; Guo, Liang; Zhang, Qingmao
Author: Lin, Hai; Han, Junling; Jing, Xufeng
The Journal of Laser Applications (JLA) is the scientific platform of the Laser Institute of America (LIA) and is published in cooperation with AIP Publishing. The high-quality articles cover a broad range from fundamental and applied research and development to industrial applications. Therefore, JLA is a reflection of the state-of-R&D in photonic production, sensing and measurement as well as Laser safety.
The following international and well known first-class scientists serve as allocated Editors in 9 new categories:
High Precision Materials Processing with Ultrafast Lasers
Laser Additive Manufacturing
High Power Materials Processing with High Brightness Lasers
Emerging Applications of Laser Technologies in High-performance/Multi-function Materials and Structures
Surface Modification
Lasers in Nanomanufacturing / Nanophotonics & Thin Film Technology
Spectroscopy / Imaging / Diagnostics / Measurements
Laser Systems and Markets
Medical Applications & Safety
Thermal Transportation
Nanomaterials and Nanoprocessing
Laser applications in Microelectronics.
2023年12月(yue)升(sheng)級版(ban) |
綜述:否
TOP期刊:否
大類:工程技術 4區
小類:
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY OPTICS PHYSICS, APPLIED |
2022年12月升級版 |
綜述:否(fou)
TOP期刊:否
大類:工程技術 4區
小類:
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY OPTICS PHYSICS, APPLIED |
2021年12月舊的升級版 |
綜述:否(fou)
TOP期刊:否(fou)
大類:工程技術 4區
小類:
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY OPTICS PHYSICS, APPLIED |
2021年12月基礎版 |
綜述:否
TOP期刊:否
大類:工程技術 4區
小類:
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY OPTICS PHYSICS, APPLIED |
2021年12月(yue)升級版 |
綜述:否
TOP期刊:否
大類:工程技術 4區
小類:
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY OPTICS PHYSICS, APPLIED |
2020年(nian)12月(yue)舊的(de)升級版 |
綜述:否
TOP期刊:否(fou)
大類:工程技術 4區
小類:
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY OPTICS PHYSICS, APPLIED |
中科院SCI分區:是中國科學院文獻(xian)情報中心科學計(ji)量中心的科學研究成(cheng)果。期刊(kan)分(fen)區(qu)表自2004年(nian)開始發(fa)布,延續至今;2019年(nian)推(tui)出升級(ji)版,實現基礎版、升級(ji)版并存(cun)過渡,2022年(nian)只(zhi)發(fa)布升級(ji)版,期刊(kan)分(fen)區(qu)表數據(ju)每年(nian)底發(fa)布。 中科院分(fen)區(qu)為(wei)4個區(qu)。中科院分(fen)區(qu)采用刊(kan)物前3年(nian)影響因(yin)子(zi)平(ping)均值進(jin)行(xing)分(fen)區(qu),即前5%為(wei)該(gai)類1區(qu),6%~20%為(wei)2區(qu)、21%~50%為(wei)3區(qu),其余的為(wei)4區(qu)。1區(qu)和(he)2區(qu)雜志很少,雜志質(zhi)量相對(dui)也高,基本都是本領域(yu)的頂級(ji)期刊(kan)。
按JIF指標學科(ke)分區 |
學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
收錄子集:SCIE
分區:Q3
排名:321 / 438
百分位:
26.8% 學科:OPTICS
收錄子集:SCIE
分區:Q3
排名:73 / 119
百分位:
39.1% 學科:PHYSICS, APPLIED
收錄子集:SCIE
分區:Q3
排名:125 / 179
百分位:
30.4% |
按(an)JCI指標學科(ke)分區 |
學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
收錄子集:SCIE
分區:Q3
排名:267 / 438
百分位:
39.16% 學科:OPTICS
收錄子集:SCIE
分區:Q3
排名:75 / 120
百分位:
37.92% 學科:PHYSICS, APPLIED
收錄子集:SCIE
分區:Q3
排名:111 / 179
百分位:
38.27% |
JCR分區:JCR分(fen)(fen)區(qu)(qu)來自科(ke)睿唯(wei)安公司,JCR是一個獨特的(de)(de)多學(xue)(xue)科(ke)期(qi)(qi)刊評價工具,為(wei)唯(wei)一提供基于引文(wen)數據(ju)的(de)(de)統計(ji)信息的(de)(de)期(qi)(qi)刊評價資(zi)源。每年發布(bu)的(de)(de)JCR分(fen)(fen)區(qu)(qu),設置(zhi)了(le)254個具體學(xue)(xue)科(ke)。JCR分(fen)(fen)區(qu)(qu)根據(ju)每個學(xue)(xue)科(ke)分(fen)(fen)類按照期(qi)(qi)刊當(dang)年的(de)(de)影響因子高低將期(qi)(qi)刊平均分(fen)(fen)為(wei)4個區(qu)(qu),分(fen)(fen)別為(wei)Q1、Q2、Q3和Q4,各占25%。JCR分(fen)(fen)區(qu)(qu)中期(qi)(qi)刊的(de)(de)數量是均勻(yun)分(fen)(fen)為(wei)四個部分(fen)(fen)的(de)(de)。
學科類別 | 分區 | 排名 | 百分位 |
大類:Physics and Astronomy 小類:Instrumentation | Q2 | 66 / 141 |
53% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q2 | 106 / 224 |
52% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q3 | 145 / 284 |
49% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Biomedical Engineering | Q3 | 177 / 303 |
41% |
該(gai)(gai)雜志(zhi)是一本國(guo)(guo)際(ji)(ji)優(you)(you)秀雜志(zhi),在國(guo)(guo)際(ji)(ji)上有較高的學術影響力,行業關(guan)注度很(hen)(hen)高,已被(bei)國(guo)(guo)際(ji)(ji)權威(wei)數據庫SCIE收錄,該(gai)(gai)雜志(zhi)在MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY綜合專業領(ling)域(yu)專業度認(ren)可很(hen)(hen)高,對稿(gao)(gao)件內(nei)容(rong)的創新性(xing)(xing)和學術性(xing)(xing)要(yao)求很(hen)(hen)高,作(zuo)為一本國(guo)(guo)際(ji)(ji)優(you)(you)秀雜志(zhi),一般(ban)投稿(gao)(gao)過(guo)審時(shi)間都較長,投稿(gao)(gao)過(guo)審時(shi)間平均(jun) 12周,或約稿(gao)(gao) ,如果想投稿(gao)(gao)該(gai)(gai)刊要(yao)做好時(shi)間安排。版(ban)面費不祥。該(gai)(gai)雜志(zhi)近兩年未(wei)被(bei)列入預警名單,建議您投稿(gao)(gao)。如您想了解更多投稿(gao)(gao)政策(ce)及投稿(gao)(gao)方案(an),請咨詢客服(fu)。
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ENERGY & FUELS
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ENGINEERING, MECHANICAL
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ENERGY & FUELS
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