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Plasma Sources Science & Technology
收藏(zang)雜志
  • 數(shu)據庫收錄SCIE
  • 創刊(kan)年份1992年
  • 年發文量242
  • H-index94

Plasma Sources Science & Technology

期刊中文名:等離子源科技ISSN:0963-0252E-ISSN:1361-6595

該雜(za)志(zhi)(zhi)國際(ji)簡(jian)稱:PLASMA SOURCES SCI T,是由出(chu)版(ban)商IOP Publishing Ltd.出(chu)版(ban)的(de)一本致力(li)于(yu)發(fa)布物理與(yu)天體物理研(yan)究(jiu)新(xin)成果的(de)的(de)專業學術(shu)期刊。該雜(za)志(zhi)(zhi)以PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS研(yan)究(jiu)為重點,主要(yao)發(fa)表刊登(deng)有創見的(de)學術(shu)論文(wen)文(wen)章、行(xing)業最(zui)新(xin)科研(yan)成果,扼要(yao)報道階段性(xing)研(yan)究(jiu)成果和(he)重要(yao)研(yan)究(jiu)工作的(de)最(zui)新(xin)進展(zhan),選(xuan)載對學科發(fa)展(zhan)起指導作用的(de)綜(zong)述與(yu)專論,促進學術(shu)發(fa)展(zhan),為廣大讀(du)者服務。該刊是一本國際(ji)優秀雜(za)志(zhi)(zhi),在國際(ji)上有很高的(de)學術(shu)影響力(li)。

基本信息:
期刊簡稱:PLASMA SOURCES SCI T
是否(fou)OA:未開放
是否(fou)預警(jing):
Gold OA文章占比:26.54%
出版信息:
出版地區:ENGLAND
出版周期:Bimonthly
出版語言:English
出版商:IOP Publishing Ltd.
評價信息:
中科院分區:2區
JCR分區:Q1
影響因(yin)子:3.3
CiteScore:7.1
雜志介紹 中科院JCR分區 JCR分(fen)區 CiteScore 投稿經驗(yan)

雜志介紹

Plasma Sources Science & Technology雜志介紹

《Plasma Sources Science & Technology》是一本以English為主的(de)(de)未(wei)開(kai)放獲取國(guo)際(ji)優秀期刊(kan),中文名稱等離子源科(ke)技,本刊(kan)主要(yao)出版、報道物(wu)理與天體物(wu)理-PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領域的(de)(de)研(yan)究動態以及在該(gai)領域取得的(de)(de)各方面的(de)(de)經驗和科(ke)研(yan)成果,介紹該(gai)領域有關(guan)本專業(ye)(ye)的(de)(de)最新(xin)進展,探(tan)討行(xing)業(ye)(ye)發展的(de)(de)思路(lu)和方法,以促進學術信息交(jiao)流,提(ti)高行(xing)業(ye)(ye)發展。該(gai)刊(kan)已被(bei)國(guo)際(ji)權威數據庫SCIE收(shou)錄,為該(gai)領域相關(guan)學科(ke)的(de)(de)發展起到(dao)了良(liang)好的(de)(de)推動作用(yong),也得到(dao)了本專業(ye)(ye)人(ren)員的(de)(de)廣泛認可(ke)。該(gai)刊(kan)最新(xin)影響因子為3.3,最新(xin)CiteScore 指(zhi)數為7.1。

本刊(kan)近期中國學者發表的論(lun)文主要有:

  • Self-consistent treatment of gas heating in modeling of a coaxial DBD in atmospheric pressure CO2

    Author: Zhou, Chen; Yuan, Chengxun; Kudryavtsev, Anatoly; Yasar Katircioglu, T.; Rafatov, Ismail; Yao, Jingfeng

  • Streamer dynamics and periodical discharge regime transitions under repetitive nanosecond pulses with airflow

    Author: Zhao, Zheng; Li, Chenjie; Guo, Yulin; Zheng, Xinlei; Sun, Anbang; Li, Jiangtao

  • Numerical simulation of gas breakdown characteristics in porous dielectric and theoretical analysis based on the capillary network model

    Author: Chen, Kai; Yao, Chenguo; Mao, Yilong; Wu, Feiyu; Chen, Yue; Dong, Shoulong; Wang, Hao

  • In situ probing of atmospheric-pressure warm air glow discharge for nitrogen fixation by multiple laser spectroscopies

    Author: Shu, Zhan; Qiao, Junjie; Yang, Qi; Song, Yijia; Wang, Dazhi; Xiong, Qing

英文介紹

Plasma Sources Science & Technology雜志英文介紹

Plasma Sources Science and Technology (PSST) reports on low-temperature plasmas and ionized gases operating over all ranges of gas pressure and plasma density, with varying degrees of ionization. The emphasis of PSST is on the fundamental science of these plasmas, their sources and the physical and chemical processes initiated or sustained by them, as elucidated through theoretical, computational or experimental techniques. PSST also reports on new experimentally or theoretically derived fundamental data (e.g. cross sections, transport coefficients) required for investigation of low temperature plasmas. Reports that relate to the technology and applications of these plasmas should be closely linked to the science and fundamental processes occurring in the plasma state.

中科院SCI分區

Plasma Sources Science & Technology雜志中科院分區信息

2023年12月升級(ji)版
綜述:
TOP期刊:
大類:物理與天體物理 2區
小類:

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理:流體與等離子體 1區

2022年12月升級版
綜述:
TOP期刊:
大類:物理與天體物理 1區
小類:

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理:流體與等離子體 1區

2021年12月舊的升(sheng)級版
綜述:
TOP期刊:
大類:物理與天體物理 2區
小類:

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理:流體與等離子體 1區

2021年12月基礎版
綜述:
TOP期刊:
大類:物理 2區
小類:

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理:流體與等離子體 1區

2021年12月升級版
綜述:
TOP期刊:
大類:物理與天體物理 2區
小類:

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理:流體與等離子體 1區

2020年(nian)12月舊的升(sheng)級版
綜述:
TOP期刊:
大類:物理與天體物理 2區
小類:

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理:流體與等離子體 2區

中科院SCI分區:是(shi)中(zhong)(zhong)國科(ke)(ke)學(xue)院(yuan)文獻情報中(zhong)(zhong)心(xin)科(ke)(ke)學(xue)計量中(zhong)(zhong)心(xin)的(de)科(ke)(ke)學(xue)研究成(cheng)果。期(qi)刊(kan)分(fen)區(qu)表(biao)自2004年(nian)開始發布,延續至今;2019年(nian)推出升級(ji)版(ban)(ban),實現基礎版(ban)(ban)、升級(ji)版(ban)(ban)并存(cun)過(guo)渡,2022年(nian)只發布升級(ji)版(ban)(ban),期(qi)刊(kan)分(fen)區(qu)表(biao)數據每年(nian)底發布。 中(zhong)(zhong)科(ke)(ke)院(yuan)分(fen)區(qu)為4個區(qu)。中(zhong)(zhong)科(ke)(ke)院(yuan)分(fen)區(qu)采用刊(kan)物前(qian)3年(nian)影響因子平均值進行(xing)分(fen)區(qu),即前(qian)5%為該類1區(qu),6%~20%為2區(qu)、21%~50%為3區(qu),其余的(de)為4區(qu)。1區(qu)和2區(qu)雜(za)志很(hen)少,雜(za)志質量相對也(ye)高,基本(ben)都是(shi)本(ben)領域的(de)頂級(ji)期(qi)刊(kan)。

JCR分區(2023-2024年最新版(ban))

Plasma Sources Science & Technology雜志 JCR分區信息

按JIF指標學(xue)科分區
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
收錄子集:SCIE
分區:Q1
排名:6 / 40
百分位:

86.3%

按JCI指標(biao)學科分區
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
收錄子集:SCIE
分區:Q1
排名:6 / 40
百分位:

86.25%

JCR分區:JCR分(fen)(fen)區來自(zi)科睿唯安公司,JCR是一個(ge)(ge)(ge)獨特(te)的(de)(de)(de)(de)(de)多(duo)學科期(qi)刊(kan)評價工(gong)具(ju),為(wei)(wei)唯一提供基于(yu)引文數(shu)據的(de)(de)(de)(de)(de)統計信(xin)息的(de)(de)(de)(de)(de)期(qi)刊(kan)評價資源。每年(nian)發布(bu)的(de)(de)(de)(de)(de)JCR分(fen)(fen)區,設置了254個(ge)(ge)(ge)具(ju)體學科。JCR分(fen)(fen)區根據每個(ge)(ge)(ge)學科分(fen)(fen)類(lei)按照期(qi)刊(kan)當年(nian)的(de)(de)(de)(de)(de)影(ying)響因子高低將期(qi)刊(kan)平均(jun)分(fen)(fen)為(wei)(wei)4個(ge)(ge)(ge)區,分(fen)(fen)別為(wei)(wei)Q1、Q2、Q3和Q4,各占25%。JCR分(fen)(fen)區中期(qi)刊(kan)的(de)(de)(de)(de)(de)數(shu)量是均(jun)勻(yun)分(fen)(fen)為(wei)(wei)四個(ge)(ge)(ge)部分(fen)(fen)的(de)(de)(de)(de)(de)。

CiteScore 評價數據(2024年最新版)

Plasma Sources Science & Technology雜志CiteScore 評價數據

  • CiteScore 值:7.1
  • SJR:0.771
  • SNIP:1.373
學科類別 分區 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q1 74 / 434

83%

歷年影響因子和期刊自引率

投稿經驗

Plasma Sources Science & Technology雜志投稿經驗

該雜(za)志(zhi)是(shi)一(yi)本(ben)國際(ji)優秀雜(za)志(zhi),在國際(ji)上有較高(gao)(gao)的學術(shu)(shu)影響力,行業(ye)關注度(du)很(hen)高(gao)(gao),已(yi)被國際(ji)權威(wei)數據庫SCIE收錄,該雜(za)志(zhi)在PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS綜合專(zhuan)業(ye)領域專(zhuan)業(ye)度(du)認可(ke)很(hen)高(gao)(gao),對稿(gao)(gao)件內容的創(chuang)新性和學術(shu)(shu)性要(yao)求(qiu)很(hen)高(gao)(gao),作(zuo)為一(yi)本(ben)國際(ji)優秀雜(za)志(zhi),一(yi)般投(tou)稿(gao)(gao)過審時(shi)間都較長,投(tou)稿(gao)(gao)過審時(shi)間平(ping)均 約6.0個月 ,如果想投(tou)稿(gao)(gao)該刊要(yao)做好時(shi)間安排。版(ban)面費不祥。該雜(za)志(zhi)近兩年未被列入(ru)預警名單,建(jian)議您投(tou)稿(gao)(gao)。如您想了解更多投(tou)稿(gao)(gao)政策及投(tou)稿(gao)(gao)方案,請咨詢客服(fu)。

免責聲明

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